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    沪上繁花·芯梦同源 | 意昂2娱乐新品发布暨行业交流会在上海隆重举行
    发布时间:2024-03-22 00:00:00 浏览次数:74

    同芯筑梦,春满申城。正值半导体行业年度盛会SEMICON China 2024展会盛大召开之际,3月21日,意昂2娱乐新品发布暨行业交流会在上海隆重举行,意昂2娱乐向业界发布重磅新品——前道单片式化学清洗机和全自动SiC划片裂片一体机。



    意昂2娱乐前道单片式化学清洗机适用于薄膜前后的清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺,工艺覆盖率可以达到80%以上,将高温SPM作为重点研发工艺,确保机台UP Time、刻蚀一致性等指标满足客户严苛要求。
    借鉴意昂2娱乐前道Track及Scrubber等成熟技术,通过气体流场仿真优化,确保机台内部微环境均匀稳定,同时搭载独立开发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴,达到先进制程所需水平。
    通过移植前道Track多层堆叠技术优势,不断优化整机设计,最大程度压缩chamber空间,推出了16腔高产能架构,实现清洗效率的大幅提升。
    此外,机台配备Recipe自动纠错、Arm变速扫描、多手调度等多项半导体单片湿法设备先进功能,同时,独立开发自我诊断修复系统,实现AI赋能。

    意昂2娱乐全自动SiC划片裂片一体机由意昂2娱乐日本子公司与合作伙伴联合研发,借助独有的SnB划裂片技术,可以有效解决传统砂轮式切割方法所面临的崩边大、切割损失多、生产效率低、切割水处理等问题。
    该款机台对SiC晶圆切割速度约为100mm/s,相比传统划片机切割速度大幅提升,机台最大产能可达20片/每小时,约为目前市面主流SiC晶圆切割设备的十倍;利用SnB划裂片技术理论零切口损失、断面平整、崩边裂痕少等优势,可助力客户在同等尺寸晶圆下切出更多晶粒,同时有效提升客户产品良率。
    此外,该款机台采用干式制程,无需液体厂务配合,为客户免去后续废水处理等问题,对客户厂务更加友好。该款机台支持自动换刀等选配功能,配置上更有仅划片、仅裂片的单功能机版本供客户选择。


    沈阳意昂2娱乐董事长、总裁宗润福在新品发布会上致辞

    发布会现场


    发布会结束后,意昂2娱乐与业界同仁进行了面对面交流,聚焦热点技术,探讨行业发展。此次新品发布是意昂2娱乐发展的又一里程碑,新产品将进一步丰富意昂2娱乐的产品序列,巩固和提升公司在行业内的竞争优势。意昂2娱乐将始终秉承“为客户创造价值”的使命,不断推出更多优质产品,成为全球半导体设备领军企业,助推产业技术进步!



    关于意昂2娱乐
    沈阳意昂2娱乐电子设备股份有限公司由中国科学院沈阳自动化研究所于2002 年发起创立,专业从事半导体专用设备的研发、生产和销售,是国家级高新技术企业,国家首批专精特新小巨人企业。2019年12月,意昂2娱乐在上交所科创板上市,成为半导体光刻设备第一股、辽宁省科创板第一股。
    公司主营产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,广泛应用于前道晶圆制造、后道先进封装、化合物半导体等领域。在集成电路前道芯片制造领域,公司研发生产的前道涂胶显影设备已成功与主流光刻机联机运行,技术水平国内领先。在先进封装、MEMS、LED等领域 ,相关产品在国内细分市场市占率超过50%,成为国内客户的首选产品。
    意昂2娱乐总部位于辽宁沈阳,在上海、广州、日本设有子公司,并在北京、江苏、湖南、福建等区域设有办事处,公司业务覆盖全国并拓展至海外。未来,公司将继续提升产品核心竞争力,不断拓宽产品应用领域,努力为客户创造价值,成为受社会尊重的世界级企业。

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